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離子鍍

補充:0  瀏覽:8242  發布時間:2012-5-2

離子鍍在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離,并在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。

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